Микроелектронна индустрия

Електронни химикали：Известен е още като химически материали за електроника. Обикновено се отнася до употребата на специални химикали и материали в електронната индустрия, например: електронни компоненти, печатни платки, всички видове химикали и материали, използвани в опаковането и производството на промишлени и потребителски продукти. Те могат да бъдат разделени на следните артикули според различните приложения: основни платки, фоторезисти, химикали за галванично покритие, капсулиращи материали, реактиви с висока чистота, специални газове, разтворители, почистващи препарати, догиращи агенти преди почистване, маски за запояване, киселини и каустики, специални лепила и спомагателни материали за електроника и др. Електронните химикали са разнообразни, с високи изисквания за качество, малки дозировки, високи изисквания за чистота на околната среда, бързо подобрение на продукта, голям нетен приток, висока добавена стойност и др. Тези характеристики са все по-очевидни с развитието на технологията за микрообработка.

Цел на филтриране:

за отстраняване на частици и колоидни примеси;

Изисквания за филтрация:

1. Поради високия вискозитет на филтриращата течност, корпусът на филтъра обикновено трябва да може да издържи на високо налягане и механична якост.

2. Филтърният материал трябва да има добра съвместимост;

3. Добра ефективност на филтриране при отстраняване на частици и колоидни примеси.

Конфигурация на филтрацията:

Печатната платка (PCB) се нарича още печатна платка и е доставчик на електрически връзки в електронните компоненти. Според слоя на платката, тя може да бъде разделена на еднопанелна, двупанелна, четирислойна, шестслойна и многослойна.

Цел на филтриране:

за отстраняване на частици и колоидни примеси във водата или течността;

Изисквания за филтрация:

1. Висок дебит, висока механична якост, дълъг полезен живот.

2. Отлична ефективност на филтриране.

Конфигурация на филтрацията:

Процедура на филтриране:

CMP означава химико-механично полиране. Оборудването и консумативите, използвани в CMP технологията, включват: полираща машина, полираща паста, полираща подложка, оборудване за почистване след CMP, оборудване за откриване на крайни точки на полиране и контрол на процеса, оборудване за третиране и тестване на отпадъци и др.

Полиращият разтвор CMP е вид продукт за полиране на метали с висока чистота и ниско йонно съдържание, произведен чрез специален процес на високочиста силициева прахообразна суровина. Той се използва широко при полиране на различни наноразмерни материали с висока планаризация.

Цел на филтриране:

за отстраняване на частици и колоидни примеси;

Изисквания за филтрация:

1. Нискоразтворимо вещество от филтърната среда, без загуба на среда

2. Добра способност за отстраняване на примеси, дълъг полезен живот.

3. Висок дебит, висока механична якост

Конфигурация на филтрацията:

Процедура на филтриране: